簡(jiǎn)要描述:光催化反應釜巖征儀器是生產(chǎn)反應釜廠(chǎng)家,我們的產(chǎn)品銷(xiāo)售供應各地乃國外高校、研究所、企業(yè)。我們有雄厚的研發(fā)團隊,優(yōu)質(zhì)的售前售后服務(wù)。
上海巖征生產(chǎn)的光化學(xué)高壓反應釜,使用溫度300℃內,使用壓力:10mpa,適用于光化學(xué)高壓反應、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領(lǐng)域
設計參數:
加熱功率 :1000W
設計溫度: 300℃
使用溫度: 50~250℃(50ML 使用 200℃)
控溫精度: ±1℃ (無(wú)強放熱吸熱情況下)
設計壓力: 150bar
爆破壓力 :125bar
使用壓力 ≤100bar (注 1)
標準材質(zhì): 316L (注 2)
攪拌速度: 150~1000r/min
特點(diǎn):
支持多工位對比實(shí)驗;
具備探底管取樣功能;
支持催化劑過(guò)濾;
LCD 真彩色全觸摸操作界面;
鑄銅加熱器,均熱性高,傳熱快;
支持保溫計時(shí)和啟動(dòng)計時(shí),雙計時(shí)模式;
具備安全聯(lián)鎖功能,超溫超壓報警;
支持懸浮攪拌,避免攪拌子底部磨損和催化劑磨損;
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